國美館舉辦｜「中華民國第十七屆國際版畫雙年展」專題講座

新聞中心／文化部訊

文化部所屬國立臺灣美術館將於105年8月6日（六）舉辦「中華民國第十七屆國際版畫雙年展」專題講座，邀請到台南應用科技大學美術系專任副教授朱哲良老師主講，他將在演講中討論數位科技如何影響版畫藝術，從多面向討論版畫藝術在當代數位浪潮中的演變。

國美館即日起至8月28日於101、102展覽室舉辦「中華民國第十七屆國際版畫雙年展」，中華民國國際版畫雙年展於民國72年開辦，今年邁入第十七屆，也是當代歷史最長久的國際版畫展之一。本次雙年展共有80個國家超過1200位藝術家報名投件，經由評審選出205件入選作品。本屆版畫雙年展入選作品不僅具有多元的版畫技術，更呈現出各國不同的文化風貌，並反映藝術家關注之議題。

本次講座的主講人朱哲良畢業於國立藝術學院（現今國立臺北藝術大學）美術學系，並在美國紐約普瑞特藝術學院藝術與設計研究所深造，專攻版畫、繪畫及藝術理論。2006年起於台南應用科技大學美術系任教，並創設版印中心，致力於版畫創作及推廣教育，也曾受邀擔任中華民國第十四屆國際版畫雙年展的評審。除了創作，朱老師本身也是策展人以及藝術評論者，其會在演講過程中以自身的創作經驗、藝評家、策展人等不同角色去討論數位科技如何影響版畫藝術。

國美館竭誠歡迎有興趣的同好共同參與，本活動採取網路報名，報名日期自即日起至8月5日截止，報名及活動詳情請上國美館官網查詢：http://www.ntmofa.gov.tw。

活動名稱：「中華民國第十七屆國際版畫雙年展」專題講座

活動日期： 105年8月6日(六) 14:00 - 16:00

活動地點：國立臺灣美術館 演講廳